SCREENセミナー（オンライン）物理⼯学域セミナー・TREMS共催

題目：次世代半導体を実現する最先端ウェット洗浄技術

講演者：SCREEN 執行役員技術戦略担当　奥野泰利

題目：ファウンダリーを支える最先端装置技術とアカデミックの関わり

講演者： SCREEN 洗浄開発統轄部洗浄技術開発部　田中考佳

日時：12月8日 15：30～16：30

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ミーティングID: 895 7371 8645

パスコード: 315361

講演内容

半導体デバイスの微細化に伴い、ウェット洗浄はシリコンウェハから異物を除去するだけに留まらず、次世代半導体の実現に欠かせない技術へと進化してきた。本講演では、皆さんに洗浄に興味を持って頂けるよう、化学反応や物理モデルを使い基礎から最先端までを解説する。

世話人コメント

SCREENは半導体や液晶製造装置などの産業機器を製造する会社で，特に，半導体洗浄プロセスでは世界トップの技術を有する会社です．今回は，その洗浄技術の科学についてわかりやすく解説して頂く予定です．一方，皆さんご存知のように，

TSMCが筑波地区に研究開発会社を設立するなど，半導体業界が活発に動き出しています．今回のセミナーでは，上記の講演内容に加えて， TSMCに代表される半導体ファンドリーがなぜ強いのか，

ファンドリーはなにを狙っているのか，また，半導体企業がアカデミックに期待すること等をお話し頂く予定です．この機会に是非ご参加ください．

世話人：上殿明良

2021/10/4

2021/12/10